Nouvelle technique de nano fabrication par croissance sur des nanoparticules d'or chauffees par laser

Le chercheur, David Boyd, et ses collegues du California Institute of
Technology (CalTech), viennent de mettre au point une nouvelle methode pour
deposer en surface de tres faibles quantites de matiere. Cette technique,
appelee depot chimique en phase vapeur assiste par plasmon, s’ajoute a la
liste des methodes existantes de nano fabrication.
Dans un article paru dans la revue Nano Letters, le chercheur David Boyd et
ses collegues de CalTech, de l’Universite Stanford et de l’Universite de New
York, decrivent ce nouveau procede de deposition, qui consiste a focaliser
un faisceau laser de basse puissance sur un substrat recouvert d’une couche
de nano particules d’or, peut s’appliquer a differents materiaux. La
longueur d’onde du faisceau laser correspond a la frequence de resonance des
particules d’or. Sous l’action du faisceau laser (environ 1 micro-m de
diametre), la temperature des particules d’or s’eleve d’une centaine de
degres, suffisamment pour que les molecules de gaz a deposer forment des
depots microscopiques sur les nano particules a l’emplacement du faisceau
laser. En deplacant le faisceau laser, il est alors possible de « dessiner »
des nano structures sur le substrat. La cle de ce procede reside dans la
faible conductivite thermique des nano particules. En effet a l’echelle
nanometrique, les particules absorbent efficacement l’energie du faisceau
laser et, de par leur faible conductivite thermique, la chaleur generee se
dissipe faiblement aux particules environnantes, ce qui permet d’atteindre
des temperatures beaucoup plus importantes que celles prevues par les
modeles classiques de conduction thermique.
Pour demontrer la technique, les chercheurs ont fait croitre, sur un
substrat de verre, des nano fils d’oxyde de plomb d’une dizaine de
nanometres de diametre. Jusqu’a present, l’equipe a reussi a realiser des
depots d’oxyde de titane, d’oxyde de plomb et d’oxyde de cerium mais
beaucoup d’autres materiaux sont envisageables.

Pour en savoir plus, contacts :
« Plasmon-Assisted Chemical Vapor Deposition », David A. Boyd,* Leslie
Greengard, Mark Brongersma, Mohamed Y. El-Naggar, and David G. Goodwin
http://redirectix.bulletins-electroniques.com/QzJyZ
Sources : - CalTech -
http://pr.caltech.edu/media/Press_Releases/PR12912.html