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Nanofabrication

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Nanofabrication

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L’ Institute for Material Research and Engineering a developpe de
nouvelles techniques simples et peu couteuses de fabrication de motifs a
l’echelle nanometrique. Ces outils permettent de dessiner sur de grandes
surfaces des motifs de forte densite, utilises notamment dans des
applications microelectroniques. Les chercheurs de l’IMRE ont mis au
point une methode appelee « nano-impression inversee » ; le motif polymere
est applique directement sur le moule et ensuite transfere sur la
surface cible, permettant ainsi de recouvrir des surfaces qui ne sont
pas habituellement faciles a travailler, ainsi que la superposition de
motifs nanometriques couche sur couche. Cette techniue parmet d’imrimer
les surfaces a des temperatures et pressions plus basses que celles
necessaires jusuq’a present, de travailler sur des surfaces souples ou
complexes, et de realiser des superpositions de couches. Une deuxieme
methode est d’employer des films solides pourvus de nano-pores afin de
guider le depot de matrices de nanoparticules sur la surface. Une fois
le film retire, il reste seulement les structures de nanoparticules
formant un motif sur la surface. Les dimensions des nano-particules sont
conditionnees dans ce cas par la taille des pores du film. Cette methode
est tres utile pour creer des structures de tres haute densite aux
motifs uniformes.

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