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Plasma & Ionbeam Corporation (P&I), une jeune pousse technologique a capital risque issue de l’Institut Coreen de Science
Science
La science est désormais l’affaire de tous. Découvrez la science d’une manière ludique et active. Nous vous proposons d’en découvrir plus sur nos expéditions à la voile, découverte du plancton.
et Technologie (KIST) basee a Seoul a annonce en avril 2005 avoir developpe la technologie necessaire a la production en masse de haut-parleurs aussi fins et souples qu’un morceau de tissu.
Attendue depuis longtemps par les constructeurs, la possibilite de produire en masse des haut-parleurs pouvant rentrer dans n’importe quel espace est enfin realisee. Ces films flexibles peuvent etre accroches sur un mur ou envelopper un objet. Ils peuvent etre decoupes et simplement connectes a un amplificateur par un cable audio. P&I a developpe un procede de production de films haut-parleurs qui peuvent etre deformes aussi facilement que de la toile ou du papier.
La seule limitation actuelle de ces haut-parleurs est leur difficulte a emettre des sons de moins de 50Hz, ce qui necessite de les utiliser avec un woofer.
Selon le Dr. Koh Seok-Keun, president de P&I, la mise en place de la technologie permettant une production de masse a pris 4 annees d’etudes apres son developpement initial.
Le KIST, un centre de recherche public qui possede 30% de P&I, avait developpe les films haut-parleurs 4 ans auparavant.
La principale innovation de P&I Corp. a ete la mise au point de la methode permettant de fixer les electrodes sur le film piezoelectrique a base d’oxyde de polyvinylidene. P&I Corp. a depose un brevet international pour sa technologie de traitement de surface ameliorant l’adhesion appliquee au film haut-parleur.
Les domaines d’activite de P&I Corp. incluent aussi bien la recherche et developpement sur les modifications de surface des materiaux, les depots de couches minces et les procedes plasma ou faisceaux d’ions que la commercialisation de ces technologies.
Contacts :
- http://www.plasma-ion.com/i_f.html
Sources : The Korea Times, 25/05/2005
Redacteur : vincent.monti diplomatie.gouv.fr